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中國(guó)地質(zhì)大學(xué)珠寶學(xué)院2011考研大綱公布

中國(guó)地質(zhì)大學(xué)珠寶學(xué)院2011考研大綱公布(專(zhuān)業(yè)課)。

 

  《寶石鑒定》考試大綱

  一、試卷結(jié)構(gòu)

  (一)、內(nèi)容比例

  1、寶石鑒定理論部分 100分

  2、寶石鑒定實(shí)踐部分 100分

  (二)、題型比例

  1、理論試題題型:?jiǎn)柎痤}

  2、實(shí)踐試題題型:寶石鑒定(10顆未知樣品)

  二、內(nèi)容及要求

  (一)、理論部分考試內(nèi)容及要求

  1、掌握寶石的鑒定方法及鑒定思路,熟悉常見(jiàn)寶石的鑒定特征。

  2、了解寶石的現(xiàn)代測(cè)試技術(shù)及應(yīng)用。

  3、掌握寶石常規(guī)鑒定儀器的局限性,了解現(xiàn)今寶石鑒定的重點(diǎn)和難點(diǎn)。

  4、了解最新的寶石合成和處理方法。

  5、掌握市場(chǎng)常見(jiàn)的貴金屬類(lèi)型和基本知識(shí)。

  6、了解寶石學(xué)的前沿動(dòng)態(tài)。

  (二)、實(shí)踐部分考試內(nèi)容及要求

  1、熟練使用常規(guī)寶石鑒定儀器。

  2、鑒別10顆未知寶石樣品。

  3、編寫(xiě)鑒定報(bào)告。

  《寶石學(xué)》考試大綱

  一、試卷結(jié)構(gòu)

  (一)、內(nèi)容比例

  1、寶石學(xué)基礎(chǔ)理論約25%

  2、珠寶鑒定儀器約20%

  3、寶石各論(常見(jiàn)寶石種)約20%

  4、合成、仿制及優(yōu)化處理約20%

  5、寶石鑒定特征和方法約15%

  (二)、題型比例

  1、名詞解釋 約20%

  2、填空題 約15%

  3、選擇題 約20%

  4、問(wèn)答題 約45%

  二、內(nèi)容及要求

  (一)、寶石學(xué)基礎(chǔ)理論考試內(nèi)容:

  1、寶石分類(lèi):寶石的定義、分類(lèi)和命名。

  2、結(jié)晶學(xué)部分:晶體和非晶體的定義;晶體的基本性質(zhì);晶體、多晶質(zhì)和隱晶質(zhì);一軸晶、二軸晶、均質(zhì)體、非均質(zhì)體、正光性、負(fù)光性、光率體和雙晶的定義。

  3、物理性質(zhì):斷口、解理、裂理、硬度、比重、比重測(cè)試原理及方法、靜水稱(chēng)重法、比重液法、天平的使用等

  4、光學(xué)性質(zhì):光的性質(zhì)、自然光和平面偏振光、反射和反射定律、折射和折射定律、雙折射、光與顏色、顏色的形成、與顏色有關(guān)的概念、條痕、透明度和發(fā)光性、特殊光學(xué)效應(yīng)等。

  5、熱學(xué)、電學(xué)性質(zhì)。

  (二)、珠寶鑒定儀器考試內(nèi)容

  1、常規(guī)儀器有關(guān)的工作原理及結(jié)構(gòu)、類(lèi)型、功能、使用方法、注意事項(xiàng)等。常規(guī)儀器包括:折射儀、分光鏡、二色鏡、偏光鏡、10倍放大鏡、寶石顯微鏡、濾色鏡、紫外燈、重液、熱導(dǎo)儀等。

  2、大型測(cè)試儀器的工作原理及寶石學(xué)應(yīng)用。大型測(cè)試儀器包括:紅外光譜儀、拉曼光譜儀、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)、X射線(xiàn)熒光光譜儀、X光衍射儀、電子探針、陰極發(fā)光儀等。

  (三)寶石各論考試內(nèi)容

  1、常見(jiàn)寶石的成分、結(jié)構(gòu)、物理性質(zhì)、光性特點(diǎn)、顏色品種、加工款式、產(chǎn)狀和產(chǎn)地、品質(zhì)要素、鑒別特征等。

  2、常見(jiàn)寶石包括:鉆石、剛玉族、綠柱石族、金綠寶石族、歐泊、鋯石、尖晶石、托帕石、石榴石族、碧璽、橄欖石、長(zhǎng)石族、石英族、翡翠、軟玉、綠松石、蛇紋石玉、獨(dú)山玉、孔雀石、青金石、珍珠、珊瑚、琥珀、象牙、煤精、龜甲等。

  (四)人工寶石和寶石優(yōu)化處理考試內(nèi)容

  1、人工寶石和寶石優(yōu)化處理的基本概念;

  2、合成寶石的合成方法、原理及合成品的特征,如焰熔法、冷坩堝法、提拉法、助溶劑法、水熱法、高溫高壓法、化學(xué)氣相沉積法等;

  3、拼合寶石、再造寶石的品種及鑒定特征;

  4、仿制寶石,玻璃、塑料等;

  5、寶玉石優(yōu)化處理的基本方法及特征,如熱處理、擴(kuò)散處理(表面或體擴(kuò)散)、高溫高壓處理、輻照處理、充填處理、激光處理、染色處理、鍍膜處理等。

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