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釉質(zhì)的組織學(xué)結(jié)構(gòu)

　　釉柱

　　與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處

　　與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　一、釉 柱 enamel rod

　　(一)概念

　　釉質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)，是一種細(xì)長的柱狀體，起自釉牙本質(zhì)界，呈放散狀貫穿釉質(zhì)全層。路線不是徑直的。

　　(二)分布特點

　　窩溝處：釉質(zhì)由釉牙本質(zhì)界向窩溝底集中。

　　牙頸部：釉柱排列基本呈水平狀。

　　(三)形態(tài)

　　光鏡(磨片)

　　縱斷面：柱狀體;彎曲狀。

　　橫斷面：魚鱗狀。

　　釉柱間隙：釉柱尾部與相鄰釉柱頭部相交處呈現(xiàn)參差不齊的增寬了的間隙。

　　釉柱鞘(enamel rod sheath) ：釉柱頭部清晰的弧形邊界

　　二、與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　(一)絞釉(gnarled enamel)

　　分布：釉質(zhì)內(nèi)2/3彎曲;牙切緣及牙尖處彎曲更明顯。

　　作用：增強釉質(zhì)對咬合力的抵抗。

　　(二)施雷格線 (Schreger line)

　　落射光觀察牙縱磨片:可見寬度不等的明暗相間帶.這些明暗帶稱為施雷格線 .

　　分布:釉質(zhì)內(nèi)4/5處.

　　原因:釉柱排列方向的規(guī)律性改變而產(chǎn)生的折光現(xiàn)象.

　　暗區(qū)—釉柱的橫斷區(qū);

　　亮區(qū)—釉柱的縱斷區(qū).

　　(三)無 釉 柱 釉 質(zhì)(rodless enamal)

　　分布：在近釉牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表面約30μm處,均看不到釉柱結(jié)構(gòu). 高分辨率電鏡下可見晶體平行排列。

　　原因：內(nèi)層:可能是成釉細(xì)胞在最初分泌釉質(zhì)時,Tomes突尚未形成.

　　外層:可能是成釉細(xì)胞分泌活動停止及Tomes突退縮所致.

　　提示: Tomes突形成的重要性.

　　三、釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處

　　釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction

　　釉板 enamel lamella

　　釉叢 emamel tuft

　　釉梭 enamel spindle

　　1. 釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction

　　外形：呈貝殼狀，非直線。由許多圓弧形構(gòu)成，凸面向著牙本質(zhì)，凹面向著牙釉質(zhì)。

　　作用：增大二者的接觸面，加大了釉質(zhì)在牙本質(zhì)上的附著。

　　2. 釉板 enamel lamella

　　光鏡：垂直于牙面的薄層板狀結(jié)構(gòu)，可以貫穿整個釉質(zhì)的厚度。磨片上呈裂隙狀。

　　原因：可能是局部牙釉質(zhì)成熟的缺陷，鈣化不全，水分和釉質(zhì)基質(zhì)的殘留。

　　3. 釉叢 emamel tuft

　　光鏡：起自釉牙本質(zhì)界向牙表面散開，呈草叢狀。其高度相當(dāng)于釉質(zhì)的1/5~1/4

　　分布：較均勻。

　　原因：在Tomes突形成和釉質(zhì)沉積階段，一部分礦化較差的釉柱，有機(jī)物含量高。

　　4. 釉梭 enamel spindle

　　光鏡：起始于釉牙本質(zhì)界，呈紡錘狀結(jié)構(gòu)，黑色。

　　分布：牙尖及切緣部較多見。

　　原因：一般認(rèn)為它是成牙本質(zhì)細(xì)胞胞漿突起的末端膨大突入釉質(zhì)中形成。

　　四.與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　(一)橫紋 cross striations

　　是釉柱上與釉柱的長軸相垂直的線,透光性低.

　　呈規(guī)律性分布,間隔2~6um.使釉柱看起來像梯子.

　　原因:

　　與成釉細(xì)胞每天的周期性形成有關(guān),代表每天形成的速度.

　　可能反映釉柱中有機(jī)物、無機(jī)物在含量和密度上的變化;碳酸鹽和納含量呈周期性變化，與橫紋吻合;

　　可能代表晶體緊密堆積間穿插著有機(jī)物的聚集;礦化低。

　　(二) 生長線 incremental line

　　橫磨片:呈深褐色同心環(huán)狀,似樹的年輪。

　　縱磨片:自釉牙本質(zhì)界向外，沿著釉質(zhì)形成的方向，在牙尖部呈環(huán)行排列，近牙頸部部漸成斜行線.

　　原因:

　　是釉質(zhì)周期性的生長速率改變所形成的間歇線。約代表5~10天釉質(zhì)沉積的速度

　　寬度和間距因發(fā)育狀況變化而不同.

　　新生線 neonatal line

　　定義:在乳牙和第一恒磨牙上,常見的一條加重的生長線.

　　原因:釉質(zhì)一部分在胎兒期形成,另一部分在嬰兒出生后.

　　電鏡:晶體密度減低.

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